1、SK海力士计划在10nm Gen 6（1c）DRAM生产中使用Inpria的金属氧化物阻抗（MOR）。 2、MOR将被用于绘制1cDRAM的最细线路。 3、Inpria是日本化学公司JSR的子公司，自2022年以来一直与SK海力士合作开发MOR。