High-NA EUV（High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet）光刻技术是半导体制造领域的一项前沿技术，它通过提高光刻机的数值孔径（NA）来实现更精细的芯片制造。ASML作为这一技术的领先供应商，其TwinScan EXE:5000系列光刻机代表了当前技术的最高水平。