EUV（极紫外）光刻技术是半导体制造中的关键技术，尤其在7nm及以下工艺节点中至关重要。ASML作为全球主要的EUV光刻机供应商，其技术的发展直接影响到全球半导体产业的格局。EUV光刻技术的发展历程中，面临着光源功率、光刻胶材料、掩模技术等多方面的挑战。此外，EUV光刻机的生产成本极高，维护和操作也极为复杂，这使得其在全球范围内的普及受到限制。近年来，随着半导体产业的全球化竞争加剧，EUV光刻技术的国际合作与竞争格局也日益复杂，涉及到的知识产权保护、技术出口管制等问题成为国际关注的焦点。深入了解EUV光刻技术的发展历程和当前面临的挑战，有助于更好地理解全球半导体产业的竞争态势和未来发展趋势。